Будь ласка, використовуйте цей ідентифікатор, щоб цитувати або посилатися на цей матеріал: http://repositsc.nuczu.edu.ua/handle/123456789/11238
Назва: Technology оf Safe Galvanochemical Process оf Strong Platings Forming Using Ternary Alloy
Автори: Гапон, Ю.К.
Трегубов, Д.Г.
Тарахно, О.В.
Дейнека, В.В.
Deineka, Victoriia
Tarakhno, Olena
Tregubov, Dmytro
Hapon, Yuliana
Ключові слова: explosion hazard
можливість виникнення горіння
current efficiency
hydrogen
microhardness
plating
alloy
еlectrolyte
electroplating industry
Дата публікації: 2020
Видавництво: Trans Tech Publications Ltd
Бібліографічний опис: Hapon Y., Tregubov D., Tarakhno О., Deineka V. Technology оf Safe Galvanochemical Process оf Strong Platings Forming Using Ternary Alloy / Problems of Emergency Situations: Materials and Technologies. Materials Science Forum. 2020. № 1006. Р. 233-238
Короткий огляд (реферат): Established the possibility of galvanochemical obtaining of a plating stronger than in case of chrome precipitation. Proposed precipitation of ternary alloy Co-Мо-W, which allows using the effect of synergism. Proposed and researched usage instead of sulphate-anhydride electrolyte – citrate-diphosphate and ammonia-citrate one. Achieved an increase in current efficiency of precipitated alloy and decrease in current efficiency of hydrogen, with respect to chrome precipitation, which increased safety of the galvanochemical industry. Selected the optimal ratios of components in citrate−diphosphate and ammonia−citrate electrolytes for ternary alloy Co-Мо-W precipitation. Determined the parameters of electrical effect for the galvanic process: constant current – j = 2–8 А/dm2, pulse unipolar current – j = 4–20 А/dm2. Achieved a high microhardness of this plating and high adhesion to base surface. Achieved greater safety of the galvanochemical technological process of ternary alloy Co-Мо-W application compared with chromium plating. Full text: https://www.scientific.net/book/problems-of-emergency-situations-materials-and-technologies/978-3-0357-3747-9
URI (Уніфікований ідентифікатор ресурсу): http://repositsc.nuczu.edu.ua/handle/123456789/11238
Розташовується у зібраннях:Кафедра спеціальної хімії та хімічної технології

Файли цього матеріалу:
Файл Опис РозмірФормат 
MSF.1006.233Гапон (1).pdfБезпечні гальванохімічні режими311,73 kBAdobe PDFПереглянути/Відкрити


Усі матеріали в архіві електронних ресурсів захищені авторським правом, всі права збережені.